Ta2AgLaO7, Ta3Ca2AgO10: Ionic Conduction
a.192
a.192
TiO2: K, Li, Na Diffusion
a.193
a.193
TiO2: Ion Implantation and Point Defects
a.194
a.194
TiO2: Ion Implantation, Point Defects, and Defect Annealing
a.195
a.195
TiO2: Point Defects
a.196
a.196
UO2, U3Si, U3Si2: Ion Bombardment and Dislocations
a.197
a.197
V2Al0.11O5.15: Li Diffusion
a.198
a.198
WO3: H Diffusion
a.199
a.199
WO3: Li Diffusion
a.200
a.200
TiO2: Point Defects
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