[1]
A. Sokołowska, Niekonwencjonalne srodki syntezy materiałow (Unconventional means of materials synthesis) ISBN 83-01-10848-7, WN PWN Warszawa (1991).
Google Scholar
[2]
A. Czernietski, Wstep do fizyki plazmy, (Introduction to plasma physics) ISBN 83-01 PWN, Warszawa (1971).
Google Scholar
[3]
Z. Celinskik, Plazama, (Plasma) Biblioteka problemow, ISBN 83-01-01125-4, PWN, Warszawa (1980).
Google Scholar
[4]
Kordus A.: Własciwosci i zastosowania w technice, WNT, Warszawa (1982).
Google Scholar
[5]
A. Michalski, Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej , ( Physicochemical basis, the coating from the gas phase) WPW Warszawa (2000).
Google Scholar
[6]
D.A. Glocker, Principles and Applications of Hollow Cathode Magnetron Sputtering Sources Isoflux, Inc., Rush, NY, 38th Annual Technical Conference Proceedings (1995) ISSN 0737.
Google Scholar
[7]
Thornton J. A,. Recent advances in sputter Deposition, Surface Engineering 2 (4) (1986), 283-292.
Google Scholar
[8]
W. Posadowski, Nowoczesne uklady magnetronowe do prozniowego nanoszenia cienkich warstw, (Modern systems for vacuum magnetron thin film deposition), Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, ISBN 83-7085-581-4, Wrocław (2001).
Google Scholar
[9]
A. Brudnik, Otrzymywanie warstw TiN z zastosowaniem optycznej kontrolo procesu reaktywnego rozpylania, Doktorat (Preparation of TiN layers with controlled optical reactive sputtering process - Ph.D. ) AGH (1993).
Google Scholar
[10]
K. Miernik, Magnetron linear theory of design, characteristics. Materials II Mielno School '92.
Google Scholar
[11]
K. Miernik, Działanie i budowa magnetycznych urządzen rozpylających (Working and construction of magnetic sputtering equipment) ISBN 83-86148-38-X, ITE Radom (1997).
Google Scholar
[12]
J. Walkowicz, Fizykochemiczna struktura plazmy a skład chemiczny i fazowy warstw wytwarzanych technikami plazmowej inżynierii powierzchni. (Physico-chemical structure of the plasma and chemical and phase composition of the layers produced plasma surface engineering techniques), ISBN 83-7204-2987-5, ITE Radom (2003).
Google Scholar
[13]
E. Harold McKelvey, A rtatable magnetron sputtering apparatus, -United States Patent 4, 356, 073., (1982).
Google Scholar
[14]
Information on http: / www. angstromsciences. com, Angstrom Sciences -Magnetron Sputtering Technology & Sputtering Materials.
Google Scholar
[15]
Patent: Method of using cathode sputtering with rotating target audience, ( 04. 07. 2007 Europejski Biuletyn Patentowy EP 1722005 B12007/27.
Google Scholar
[16]
Ch.P., Mulligan, S. B Smith, G.N. Vigilante, Charakteryzation and Cmparison of Magnetron Sputtering and Electroplated Gun Bore Coatings; J. Pressure Vessel Technol. 128 (2) , (2005), 240-245.
DOI: 10.1115/1.2172963
Google Scholar
[17]
Information on http /www. ardec. army. mil/benet.
Google Scholar
[18]
Information on http: / www. teercoatings. co. uk.
Google Scholar
[19]
Leroy W. P, Mahieu S., De Gryse R., Depla D. In search fr limits of rtating cylindrical magnetron sputtering , www. drzaft. ugent. be.
Google Scholar
[20]
M. Betiuk, Powłoki CrN na wewnętrznych powierzchniach rur i cylindrów, (CrN coating on the inner surfaces of pipes and cylinders), V Konferencja Naukowa Nowoczesne technologie w Inżynierii Powierzchni, Łódź – Spała 2013, 18-21.
Google Scholar